磁過濾電弧離子鍍制備DLC薄膜的表面形貌和成鍵狀態(tài)
關(guān)鍵詞：類金剛石薄膜 磁過濾電弧離子鍍 大顆粒 成鍵狀態(tài)
摘要：利用磁過濾電弧離子鍍技術(shù)在單晶Si基體表面沉積了類金剛石薄膜,研究了工作氣壓和偏壓占空比對(duì)DLC薄膜表面形貌、沉積速率和成鍵情況的影響.通過掃描電子顯微鏡觀察薄膜的表面形貌,利用Imagepro-plus圖像處理軟件統(tǒng)計(jì)薄膜表面大顆粒的面積和數(shù)量,通過拉曼光譜儀測(cè)量類金剛石薄膜的成鍵狀態(tài),結(jié)果表明,隨著工作氣壓從0.1Pa升至0.5Pa,薄膜表面大顆粒的總面積逐漸增加,沉積速率下降,sp3鍵含量增加;偏壓占空比從15%提高至75%,表面大顆粒的總面積和數(shù)量均不斷升高,沉積速率下降,薄膜中sp3鍵含量先降后升;占空比為30%時(shí),薄膜中sp3鍵含量最低.
材料研究與應(yīng)用雜志要求:
{1}參考文獻(xiàn)應(yīng)為公開出版物。引用文獻(xiàn)須按引用的先后，在正文中有關(guān)處用［1］，［2］…標(biāo)明，序號(hào)與全文末的參考文獻(xiàn)必須一致。
{2}中英文對(duì)照的標(biāo)題、作者、作者單位、摘要、關(guān)鍵詞。
{3}來稿請(qǐng)勿一稿多投，文責(zé)作者自負(fù)。本刊編輯部對(duì)來稿可作必要修改。
{4}基金項(xiàng)目：如果論文是項(xiàng)目成果，請(qǐng)按“項(xiàng)目名稱（項(xiàng)目號(hào)）”的形式寫出。項(xiàng)目名稱與項(xiàng)目號(hào)兩者都要有。
{5}文章標(biāo)題：一般不超過20個(gè)漢字，必要時(shí)加副標(biāo)題。
注：因版權(quán)方要求，不能公開全文，如需全文，請(qǐng)咨詢雜志社
