緩沖層厚度對NiFe/FeMn薄膜靜態(tài)磁性能的影響
關(guān)鍵詞：緩沖層 交換偏置 微結(jié)構(gòu) 靜態(tài)磁性能
摘要：采用直流磁控濺射法沉積了Ta/NiFe/FeMn/Ta薄膜系列樣品。通過振動樣品磁強(qiáng)計(jì)(VSM)、X射線衍射(XRD)、原子力顯微鏡(AFM)等檢測手段研究了Ta緩沖層厚度對NiFe/FeMn薄膜交換偏置場、矯頑力的影響。VSM測試結(jié)果表明,交換偏置場He隨Ta緩沖層厚度增加而增大,矯頑力Hc隨隨Ta緩沖層厚度增加有減小的趨勢。通過AFM檢測了不同厚度Ta緩沖層上生長的NiFe層表面均方根粗糙度,發(fā)現(xiàn)其隨Ta緩沖層厚度的增加而減小,表明NiFe/FeMn界面變得更加均勻,這導(dǎo)致了較大的He和較小的Hc。另外,通過XRD分析,發(fā)現(xiàn)隨著Ta層厚度的增加Ta由非晶態(tài)轉(zhuǎn)化為結(jié)晶狀態(tài)并先后顯示出Ta(300)、Ta(200)取向,表明隨著Ta緩沖層厚度增加,其織構(gòu)轉(zhuǎn)變也可能會導(dǎo)致靜態(tài)磁性的變化。
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