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      提升銅微電鑄均勻性的方法研究

      張劍; 盧茜; 束平; 呂英飛 中國電子科技集團(tuán)公司第二十九研究所; 四川成都610036

      關(guān)鍵詞:微電鑄 均勻性 有限元分析 

      摘要:微電鑄技術(shù)是一種金屬微結(jié)構(gòu)制備技術(shù)。與普通的機(jī)械加工相比,微電鑄的加工精度更高,能夠制備μm級精細(xì)結(jié)構(gòu)。然而,在進(jìn)行大面積銅電鑄時(shí),陰極區(qū)域不同位置電流密度分布不均勻,會產(chǎn)生明顯的電鑄厚度差異。借助有限元分析技術(shù),提出一種提升金屬銅微電鑄均勻性的方法,通過在目標(biāo)圖形外圍添加電流收集環(huán)來改變陰極電流分配密度,從而提升電鑄均勻性。

      電子工藝技術(shù)雜志要求:

      {1}摘要及關(guān)鍵詞:文中必須附中文摘要,內(nèi)容包括目的、方法、結(jié)果(應(yīng)給出主要數(shù)據(jù))及結(jié)論4個(gè)部分內(nèi)容,要求以第3人稱撰寫200-300字為宜,并附3-8個(gè)關(guān)鍵詞。有條件者,可將文題、作者、單位、摘要及關(guān)鍵詞譯成英文。

      {2}來稿力求做到富有思想性,觀點(diǎn)新穎、概念準(zhǔn)確、論證嚴(yán)謹(jǐn)、邏輯清晰、資料翔實(shí)、格式規(guī)范、文字精煉。

      {3}注明所有作者的姓名,工作單位名稱、所在城市和郵政編碼(中、英文),并注明第一作者的出生年、性別、籍貫(具體到城市或縣)、最高學(xué)歷、職稱、職務(wù)、主要研究方向、電子郵箱、詳細(xì)通信地址和聯(lián)系電話。

      {4}文稿要求:內(nèi)容真實(shí),論點(diǎn)明確,論據(jù)充分,重點(diǎn)突出。說理透徹,文字精練,具有實(shí)用性、真實(shí)性、科學(xué)性和邏輯性。

      {5}引用報(bào)刊資料,請注明作者姓名、文章標(biāo)題、刊名、刊期 ;引用書籍資料,請注明作者姓名、書名、出版社、出版時(shí)間和頁碼 ;引用互聯(lián)網(wǎng)資料,請注明作者姓名、文獻(xiàn)名、網(wǎng)址和時(shí)間。正文中出現(xiàn)的外文請譯成中文并加上括號附在外文后。

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