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      高邊緣擊穿和擴(kuò)展光譜的圓形單光子雪崩二極管

      金湘亮; 曾朵朵; 彭亞男; 楊紅姣; 蒲華燕; 彭艷; 羅均 湘潭大學(xué)物理與光電工程學(xué)院; 湖南湘潭411105; 湖南師范大學(xué)物理與電子科學(xué)學(xué)院; 湖南長(zhǎng)沙410081; 上海大學(xué)機(jī)電工程與自動(dòng)化學(xué)院; 上海200444

      關(guān)鍵詞:邊緣擊穿 暗計(jì)數(shù)率 光譜擴(kuò)展 

      摘要:介紹了一種0. 18μm互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)技術(shù)的新型寬光譜熒光相關(guān)譜探測(cè)器,其為高邊緣擊穿、擴(kuò)展光譜和低暗計(jì)數(shù)率的圓形單光子雪崩二極管(SPAD).該器件由p+/deep n-well結(jié),p-well保護(hù)環(huán)和多晶硅保護(hù)環(huán)組成.通過(guò)Silvaco TCAD 3D器件仿真,直徑為10μm的圓形p+/deep n-well SPAD器件具有較高邊緣擊穿特性.此外,p+/deep n-well結(jié)SPAD比p+/n-well結(jié)SPAD具有更長(zhǎng)的波長(zhǎng)響應(yīng)和擴(kuò)展光譜響應(yīng)范圍.該器件在0. 5 V過(guò)量偏壓下,可在490~775 nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)超過(guò)40%的光子探測(cè)率.該圓形p+/deep n-well SPAD器件在25℃時(shí)具有較好雪崩擊穿為15. 14 V,具有較低暗計(jì)數(shù)率為638 Hz.

      紅外與毫米波學(xué)報(bào)雜志要求:

      {1}正文段落層次號(hào)一律使用阿拉伯?dāng)?shù)字(不出現(xiàn)前言、引言等之內(nèi)的層次),頂行書(shū)寫(xiě),層次號(hào)后空一格,一級(jí)標(biāo)題前空一行。

      {2}注釋為對(duì)文章某一特定內(nèi)容的解釋或說(shuō)明,均以腳注形式分散標(biāo)注于正文頁(yè)面下方,其序號(hào)為①②③……,每頁(yè)重新編號(hào),注釋文字與標(biāo)點(diǎn)應(yīng)與正文一致。

      {3}摘要中如采用非標(biāo)準(zhǔn)的術(shù)語(yǔ)、縮寫(xiě)詞和符號(hào)等,均應(yīng)在首次出現(xiàn)時(shí)予以說(shuō)明。

      {4}作者簡(jiǎn)介包括:姓名、性別、出生年月、畢業(yè)學(xué)校及所學(xué)專(zhuān)業(yè)、工作單位、職務(wù)職稱(chēng)、現(xiàn)從事的研究工作、已發(fā)表論文或?qū)V闆r。

      {5}參考文獻(xiàn):按國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《文后參考文獻(xiàn)著錄規(guī)則》(GBT7714—2005)書(shū)寫(xiě)。

      注:因版權(quán)方要求,不能公開(kāi)全文,如需全文,請(qǐng)咨詢(xún)雜志社

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