關鍵詞:化學氣相沉積 石墨烯 制備 薄膜 品質(zhì)
摘要:石墨烯自發(fā)現(xiàn)以來,因其非常優(yōu)異的電學、熱學、光學和力學等性能,在高端電子、能源存儲、復合材料等領域有著廣闊的應用前景1。為了解決石墨烯的宏量制備和應用問題,自2009年以來,化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,CVD)方法逐漸成為制備高品質(zhì)石墨烯薄膜的最有效手段之一2。CVD方法制備的石墨烯因其具有質(zhì)量高、層數(shù)可控、可放大性好等特點,近幾年被廣泛地關注,并取得了迅速發(fā)展。
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