入射光照對典型光刻膠納米結(jié)構(gòu)的光學(xué)散射測量影響分析
關(guān)鍵詞：光學(xué)散射測量 光刻膠納米結(jié)構(gòu) 聚甲基丙烯酸甲酯 光學(xué)常數(shù)
摘要：作為一種快速、低成本和非接觸的測量手段,光學(xué)散射測量在半導(dǎo)體制造業(yè)中的納米結(jié)構(gòu)三維形貌表征方面獲得了廣泛關(guān)注與運用.光學(xué)散射測量是一種基于模型的測量方法,在納米結(jié)構(gòu)待測參數(shù)的逆向提取過程中,為降低參數(shù)之間的耦合性,通常需要將結(jié)構(gòu)的光學(xué)常數(shù)作為固定的已知量,即假設(shè)結(jié)構(gòu)的材料光學(xué)常數(shù)不受光學(xué)散射儀入射光照的影響.事實上,這一假設(shè)對于半導(dǎo)體制造業(yè)中的絕大多數(shù)材料是成立的,但某些感光材料的光學(xué)常數(shù)有可能隨著入射光的照射時間增加而發(fā)生改變,而由此產(chǎn)生的誤差會在一定程度上傳遞給待測形貌參數(shù)的逆向提取值.本文針對聚甲基丙烯酸甲酯光刻膠薄膜培片和光柵結(jié)構(gòu)分別開展了光學(xué)散射測量實驗與仿真研究,結(jié)果表明該光刻膠材料的光學(xué)常數(shù)隨著入射光照時間增加而變化,進(jìn)而導(dǎo)致光柵結(jié)構(gòu)形貌參數(shù)的提取結(jié)果較大地偏離于真實值,不容被忽視.這一研究發(fā)現(xiàn)將為更進(jìn)一步提高光刻膠納米結(jié)構(gòu)三維形貌參數(shù)的測量精確度提供理論依據(jù).
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