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濕磨時(shí)間對(duì)超細(xì)WC粉末晶體學(xué)參數(shù)的影響
關(guān)鍵詞：超細(xì)晶硬質(zhì)合金 濕磨時(shí)間 xrd 晶粒尺寸 微觀應(yīng)變
摘要：超過(guò)60 h的長(zhǎng)時(shí)滾動(dòng)濕磨是目前國(guó)內(nèi)制備超細(xì)晶硬質(zhì)合金最常用的工藝.本文探討濕磨時(shí)間對(duì)超細(xì)WC粉末晶體學(xué)參數(shù)的影響規(guī)律,旨在論證上述濕磨工藝的合理性.采用滾動(dòng)濕磨工藝制備WC-0.47Cr3C2-0.28VC-7Co超細(xì)混合料,采用Williamson-Hall法和Rietveld擬合法對(duì)X射線衍射圖譜進(jìn)行分析.結(jié)果表明,與WC原料相比,濕磨50 h和68 h后,WC晶粒尺寸由原始態(tài)54 nm分別減小至45 nm和40 nm,降低幅度分別為17%和26%;微觀應(yīng)變由原始態(tài)0.16%分別增加至0.17%和0.18%,增加幅度分別為6%和13%,增加幅度不明顯;晶格常數(shù)a由原始態(tài)0.290 43 nm同步減小至0.290 40 nm,晶格常數(shù)c由原始態(tài)0.283 96 nm分別增加至0.283 97 nm和0.284 01 nm,增減幅度非常小.WC晶體微觀應(yīng)變的小幅變化不會(huì)對(duì)燒結(jié)過(guò)程中WC晶粒生長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生明顯影響,適當(dāng)延長(zhǎng)濕磨時(shí)間以改善Co在超細(xì)WC-Co基混合料中分散均勻性的工藝具有合理性.
硬質(zhì)合金雜志要求:
{1}計(jì)量單位：應(yīng)按照《中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)(GB3100—3102軋93)量和單位》的規(guī)定正確使用其名稱和符號(hào)。
{2}來(lái)稿一經(jīng)接受刊登，由作者親筆簽署論文專有使用權(quán)授權(quán)書，該論文的專有使用權(quán)即歸本刊編輯部所有。
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{4}作者單位：作者應(yīng)標(biāo)明其工作單位全稱（應(yīng)寫到所在院系或研究所），加圓括號(hào)置于作者署名下方。
{5}引文超過(guò)150 字換行另起；上下各空一行；第一行縮進(jìn)4 格，以下各行縮進(jìn)2 格。夾注置于最后一個(gè)標(biāo)點(diǎn)符號(hào)之后。引詩(shī)超過(guò)8 行換行另起，規(guī)則同上。
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