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磁光成像無(wú)損檢測(cè)方法的研究現(xiàn)狀與展望
關(guān)鍵詞：磁光成像 無(wú)損檢測(cè) 研究現(xiàn)狀 展望
摘要：隨著工業(yè)發(fā)展對(duì)智能化、無(wú)污染、高效率的需求,無(wú)損檢測(cè)技術(shù)在工業(yè)中的應(yīng)用是目前各國(guó)的研究重 點(diǎn)。在此基礎(chǔ)上,磁光成像檢測(cè)將成為無(wú)損檢測(cè)領(lǐng)域的主要方法之一。概述了國(guó)內(nèi)外無(wú)損檢測(cè)的發(fā) 展現(xiàn)狀,簡(jiǎn)單介紹了工業(yè)領(lǐng)域常用的無(wú)損檢測(cè)方法;詳細(xì)介紹了磁光成像檢測(cè)技術(shù)的基本原理、激勵(lì) 方式、磁光薄膜和磁光圖像處理方法,并分別對(duì)其發(fā)展現(xiàn)狀和趨勢(shì)作了歸納分析,包括國(guó)外磁光傳感 器成品的簡(jiǎn)介。此外,概述了磁光成像檢測(cè)方法在航空航天業(yè)、工業(yè)鑄鍛焊件、激光焊接焊縫跟蹤及 光學(xué)器件制作中的應(yīng)用;同時(shí)展望了磁光成像檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展方向。
制造技術(shù)與機(jī)床雜志要求:
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